清洗 SiC 芯片時(shí),清洗劑 pH 值超過 9 可能損傷表面金屬化層,具體取決于金屬化材料及暴露時(shí)間。SiC 芯片常用金屬化層為鈦(Ti)、鎳(Ni)、金(Au)等多層結(jié)構(gòu),其中鈦和鎳在堿性條件下穩(wěn)定性較差:pH>9 時(shí),OH?會(huì)與鈦反應(yīng)生成可溶性鈦酸鹽(如 Na?TiO?),導(dǎo)致鈦層溶解(腐蝕速率隨 pH 升高而加快,pH=10 時(shí)溶解率是 pH=8 時(shí)的 5 倍以上);鎳則會(huì)發(fā)生氧化反應(yīng)(Ni + 2OH? → Ni (OH)? + 2e?),形成疏松的氫氧化鎳膜,破壞金屬化層連續(xù)性。金雖耐堿性較強(qiáng),但高 pH 值(>11)會(huì)加速其底層鈦 / 鎳的腐蝕,導(dǎo)致金層剝離。實(shí)驗(yàn)顯示:pH=9.5 的清洗劑處理 SiC 芯片 3 分鐘后,鈦層厚度減少 10%-15%,金屬化層導(dǎo)電性下降 8%-12%;若延長至 10 分鐘,可能出現(xiàn)局部露底(SiC 基底暴露)。因此,清洗 SiC 芯片的清洗劑 pH 值建議控制在 6.5-8.5,若需堿性條件,應(yīng)限制 pH≤9 并縮短清洗時(shí)間(<2 分鐘),同時(shí)添加金屬緩蝕劑(如苯并三氮唑)降低腐蝕風(fēng)險(xiǎn)。對(duì) IGBT 模塊的焊點(diǎn)有保護(hù)作用,清洗后不影響焊接可靠性。珠海有哪些類型功率電子清洗劑技術(shù)
功率電子清洗劑中,溶劑型清洗劑對(duì) IGBT 模塊的鋁鍵合線腐蝕風(fēng)險(xiǎn)更低,尤其非極性溶劑(如異構(gòu)烷烴、高純度礦物油)。鋁鍵合線(直徑 50-200μm)化學(xué)活性高,易在極性環(huán)境中發(fā)生電化學(xué)腐蝕:水基清洗劑若 pH 值偏離中性(<6.5 或> 8.5)、含氯離子(>10ppm)或緩蝕劑不足,會(huì)破壞鋁表面氧化膜(Al?O?),引發(fā)點(diǎn)蝕(腐蝕速率可達(dá) 0.5μm/h),導(dǎo)致鍵合強(qiáng)度下降(拉力損失 > 20%)。而溶劑型清洗劑無離子成分,不導(dǎo)電,可避免電化學(xué)腐蝕;非極性溶劑與鋁表面氧化膜相容性好,不會(huì)溶解或破壞膜結(jié)構(gòu)(浸泡 24 小時(shí)后,氧化膜厚度變化 < 1nm),對(duì)鋁的化學(xué)作用極弱。即使極性溶劑(如醇類),因不含電解質(zhì),腐蝕風(fēng)險(xiǎn)也低于未控標(biāo)的水基清洗劑。需注意:溶劑型需避免含酸性雜質(zhì)(pH<5),水基則需嚴(yán)格控制 pH(6.5-8.5)、氯離子(≤5ppm)并添加鋁緩蝕劑(如硅酸鈉),但整體而言,溶劑型對(duì)鋁鍵合線的腐蝕風(fēng)險(xiǎn)更易控制,穩(wěn)定性更高。珠海有哪些類型功率電子清洗劑技術(shù)能快速清洗電子設(shè)備中的助焊劑殘留。
批量清洗功率模塊時(shí),清洗劑的更換周期需結(jié)合清洗劑類型、污染程度及檢測結(jié)果綜合判定,無固定時(shí)間但需通過監(jiān)控確保離子殘留不超標(biāo)。溶劑型清洗劑(如電子級(jí)異構(gòu)烷烴)因揮發(fā)后殘留低,主要受污染物積累影響,通常每清洗 800-1200 件模塊或連續(xù)使用 48 小時(shí)后,需檢測清洗劑中離子濃度(用離子色譜測 Cl?、Na?等,總離子 > 10ppm 時(shí)更換);水基清洗劑因易溶解污染物,更換更頻繁,每清洗 300-500 件或 24 小時(shí)后檢測,若清洗后模塊離子殘留超 0.1μg/cm2(用萃取法 + 電導(dǎo)儀測定),需立即更換。此外,若清洗后模塊出現(xiàn)白斑、絕緣耐壓下降(較初始值降 5% 以上),即使未達(dá)上述閾值也需更換。實(shí)際生產(chǎn)中建議搭配在線監(jiān)測(如實(shí)時(shí)電導(dǎo)儀),結(jié)合定期抽檢(每批次取 3-5 件測殘留),動(dòng)態(tài)調(diào)整更換周期,可兼顧清洗效果與成本。
超聲波清洗功率電子元件時(shí),選擇 130kHz 及以上頻率可降低 0.8mil 鋁引線(直徑約 0.02mm)的震斷風(fēng)險(xiǎn)。鋁引線直徑極細(xì),抗疲勞強(qiáng)度低,其斷裂主要源于超聲波振動(dòng)引發(fā)的共振及空化沖擊:低頻(20-40kHz)超聲波空化泡直徑大(50-100μm),潰滅時(shí)產(chǎn)生劇烈沖擊力(可達(dá) 100MPa),且振動(dòng)波長與引線長度(通常 1-3mm)易形成共振,導(dǎo)致引線高頻往復(fù)彎曲(振幅 > 5μm),10 分鐘清洗后斷裂率超 30%;中頻(60-100kHz)空化強(qiáng)度減弱,但仍可能使引線振幅達(dá) 2-3μm,斷裂率約 10%;高頻(130-200kHz)空化泡直徑 < 30μm,沖擊力降至 10-20MPa,振動(dòng)波長縮短(<1mm),與引線共振概率極低,振幅可控制在 0.5μm 以下,20 分鐘清洗后斷裂率 < 1%。實(shí)際操作中,需配合低功率密度(<0.5W/cm2),避免局部能量集中,同時(shí)控制清洗時(shí)間(<15 分鐘),可進(jìn)一步降低風(fēng)險(xiǎn)??焖贊B透,迅速瓦解油污,清洗效率同行。
清洗后的功率模塊因清洗劑殘留導(dǎo)致氧化的存放時(shí)間,取決于殘留量、環(huán)境濕度及清洗劑成分。若清洗劑殘留量極低(離子殘留 <0.1μg/cm2,溶劑殘留 < 1mg/cm2)且環(huán)境干燥(濕度 < 30%),可存放 1-3 個(gè)月無明顯氧化;若殘留超標(biāo)(如離子> 0.5μg/cm2)或環(huán)境潮濕(濕度 > 60%),則可能在 1-2 周內(nèi)出現(xiàn)氧化:水基清洗劑殘留(含少量電解質(zhì))會(huì)形成微電池效應(yīng),加速銅 / 銀鍍層氧化(出現(xiàn)紅斑或發(fā)黑);含硫 / 氯的殘留離子會(huì)與金屬反應(yīng),3-5 天即可生成硫化物 / 氯化物腐蝕產(chǎn)物。此外,清洗劑中未揮發(fā)的極性溶劑(如醇類)若殘留,會(huì)吸附空氣中水分,使金屬表面形成水膜,縮短氧化周期至 1 周內(nèi)。測試可通過加速試驗(yàn)(40℃、90% 濕度環(huán)境放置 72 小時(shí))模擬,若出現(xiàn)氧化痕跡,說明實(shí)際存放需控制在 3 天內(nèi),建議清洗后 48 小時(shí)內(nèi)完成后續(xù)封裝,或經(jīng)真空干燥(80℃,2 小時(shí))減少殘留以延長存放期。低泡設(shè)計(jì),易于漂洗,避免殘留,為客戶帶來便捷的清洗體驗(yàn)。浙江分立器件功率電子清洗劑零售價(jià)格
創(chuàng)新溫和配方,在高效清潔的同時(shí),對(duì) IGBT 模塊無腐蝕,安全可靠。珠海有哪些類型功率電子清洗劑技術(shù)
功率電子清洗劑能否去除銅基板表面的有機(jī)硅殘留,取決于清洗劑的成分與有機(jī)硅的固化狀態(tài)。有機(jī)硅殘留多為硅氧烷聚合物,未完全固化時(shí)呈黏流態(tài),含氟表面活性劑或特定溶劑的水基清洗劑可通過乳化、滲透作用將其剝離;若經(jīng)高溫固化形成交聯(lián)結(jié)構(gòu),普通清洗劑難以溶解,需選用含極性溶劑(如醇醚類)的復(fù)配型清洗劑,利用相似相溶原理破壞硅氧鍵,配合超聲波清洗的機(jī)械力增強(qiáng)去除效果。銅基板表面的有機(jī)硅殘留若長期附著,會(huì)影響散熱與焊接性能,質(zhì)量功率電子清洗劑通過表面活性劑、螯合劑與助溶劑的協(xié)同作用,可有效分解有機(jī)硅聚合物,同時(shí)添加緩蝕劑保護(hù)銅基板不被腐蝕。實(shí)際應(yīng)用中,需根據(jù)有機(jī)硅殘留的厚度與固化程度調(diào)整清洗參數(shù),確保在去除殘留的同時(shí),不損傷銅基板的導(dǎo)電與散熱特性。珠海有哪些類型功率電子清洗劑技術(shù)