常州代理功率器件MOS產品選型參數選型

來源: 發(fā)布時間:2025-08-29

80年代初期出現的 MOS功率場效應晶體管和功率集成電路的工作頻率達到兆赫級。集成電路的技術促進了器件的小型化和功能化。這些新成就為發(fā)展高頻電力電子技術提供了條件,推動電力電子裝置朝著智能化、高頻化的方向發(fā)展。

80年代發(fā)展起來的靜電感應晶閘管、隔離柵晶體管,以及各種組合器件,綜合了晶閘管、 MOS功率場效應晶體管和功率晶體管各自的優(yōu)點,在性能上又有新的發(fā)展。例如隔離柵晶體管,既具有MOS功率場效應晶體管的柵控特性,又具有雙極型功率晶體管的電流傳導性能,它容許的電流密度比雙極型功率晶體管高幾倍。靜電感應晶閘管保存了晶閘管導通壓降低的優(yōu)點,結構上避免了一般晶閘管在門極觸發(fā)時必須在門極周圍先導通然后逐步橫向擴展的過程,所以比一般晶閘管有更高的開關速度,而且容許的結溫升也比普通晶閘管高。這些新器件,在更高的頻率范圍內滿足了電力電子技術的要求。

功率集成電路其制造工藝既概括了***代功率電子器件向大電流、高電壓發(fā)展過程中所積累起來的各種經驗,又綜合了大規(guī)模集成電路的工藝特點。這種器件很大程度地縮小了器件及其控制電路的體積,能夠有效地減少當器件處于高頻工作狀態(tài)時寄生參數的影響,對提高電路工作頻率和抑制外界干擾十分重要。 功率器件幾乎用于所有的電子制造業(yè)。常州代理功率器件MOS產品選型參數選型

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超結MOS也是為了解決額定電壓提高而導通電阻增加的問題,超結結構MOSFET在D端和S端排列多個垂直pn結的結構,其結果是在保持高電壓的同時實現了低導通電阻。超級結的存在突破了硅的理論極限,而且額定電壓越高,導通電阻的下降越明顯。以下圖為例,超結在S端和D端增加了長長的柱子,形成垂直的PN結,交替排列。N層和P層在漂移層中設置垂直溝槽,當施加電壓時耗盡層水平擴展,很快合并形成與溝槽深度相等的耗盡層。耗盡層擴展至溝槽間距的一半,因此形成厚度等于溝槽深度的耗盡層。耗盡層的膨脹小且良好,允許漂移層雜質濃度增加約5倍,從而可以降低RDS(ON)。東莞新型功率器件MOS產品選型技術指導TO-247 大功率表面貼裝封裝,3/4引腳設計,適配高功率MOSFET/IGBT(如電動汽車OBC)。

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功率器件幾乎用于所有的電子制造業(yè),包括計算機領域的筆記本、PC、服務器、顯示器以及各種外設;網絡通信領域的手機、電話以及其它各種終端和局端設備;消費電子領域的傳統黑白家電和各種數碼產品;工業(yè)控制類中的工業(yè)PC、各類儀器儀表和各類控制設備等。

電力電子器件工作時,會因功率損耗引起器件發(fā)熱、升溫。器件溫度過高將縮短壽命,甚至燒毀,這是限制電力電子器件電流、電壓容量的主要原因。為此,必須考慮器件的冷卻問題。常用冷卻方式有自冷式、風冷式、液冷式(包括油冷式、水冷式)和蒸發(fā)冷卻式等。

SGT MOSFET,即屏蔽柵溝槽MOSFET(Shielded Gate Trench MOSFET),是一種半新型的功率半導體器件。它基于傳統溝槽MOSFET技術,并通過結構上的改進來提升性能,特別是在降低導通電阻和開關損耗方面表現出色。接下來,我們將詳細介紹SGT MOSFET的特點、優(yōu)勢以及應用領域。

SGT MOS的關鍵結構創(chuàng)新是將傳統MOSFET的單柵極拆分為兩個柵極:

控制柵(Control Gate):位于溝槽頂部,直接控制溝道的開啟與關閉,與傳統MOSFET柵極功能類似。

屏蔽柵(Shield Gate):位于溝槽側壁或底部,通常與源極連接(而非漏極),通過電場屏蔽效應優(yōu)化器件內部的電場分布。垂直溝槽結構:電流路徑垂直于芯片表面,縮短漂移區(qū)長度(Drift Region),降低導通電阻(Rds(on))。 二極管?:如整流二極管、快恢復二極管,用于單向導電與電壓鉗位;

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電力電子器件正沿著大功率化、高頻化、集成化的方向發(fā)展。80年代晶閘管的電流容量已達6000安,阻斷電壓高達6500伏。但這類器件工作頻率較低。提高其工作頻率,取決于器件關斷期間如何加快基區(qū)少數載流的復合速度和經門極抽取更多的載流子。降低少子壽命雖能有效地縮短關斷電流的過程,卻導致器件導通期正向壓降的增加。因此必須兼顧轉換速度和器件通態(tài)功率損耗的要求。80年代這類器件的比較高工作頻率在 10千赫以下。雙極型大功率晶體管可以在100千赫頻率下工作,其控制電流容量已達數百安,阻斷電壓1千多伏,但維持通態(tài)比其他功率可控器件需要更大的基極驅動電流。由于存在熱激發(fā)二次擊穿現象,限制抗浪涌能力。進一步提高其工作頻率仍然受到基區(qū)和集電區(qū)少子儲存效應的影響。70年代中期發(fā)展起來的單極型MOS功率場效應晶體管, 由于不受少子儲存效應的限制,能夠在兆赫以上的頻率下工作。這種器件的導通電流具有負溫度特性,不易出現熱激發(fā)二次擊穿現象;需要擴大電流容量時,器件并聯簡單,具有線性輸出特性和較小驅動功率;在制造工藝上便于大規(guī)模集成。但通態(tài)壓降較大,制造時對材料和器件工藝的一致性要求較高。到80 年代中、后期電流容量*達數十安,阻斷電壓近千伏。對于高功率場景,優(yōu)先考慮散熱能力強的TO系列或D2PAK;南京無刷直流電機功率器件MOS產品選型價格行情

功率MOSFET具有較強的過載能力。短時過載能力通常額定值的4倍。常州代理功率器件MOS產品選型參數選型

場效應晶體管(Field Effect Transistor縮寫(FET))簡稱場效應管。主要有兩種類型:結型場效應管(junction FET—JFET)和金屬 - 氧化物半導體場效應管(metal-oxide semiconductor FET,簡稱MOS-FET)。由多數載流子參與導電,也稱為單極型晶體管。它屬于電壓控制型半導體器件。具有輸入電阻高(107~1015Ω)、噪聲小、功耗低、動態(tài)范圍大、易于集成、沒有二次擊穿現象、安全工作區(qū)域寬等優(yōu)點,現已成為雙極型晶體管和功率晶體管的強大競爭者。場效應管(FET)是利用控制輸入回路的電場效應來控制輸出回路電流的一種半導體器件,并以此命名。由于它*靠半導體中的多數載流子導電,又稱單極型晶體管。FET 英文為Field Effect Transistor,簡寫成FET。常州代理功率器件MOS產品選型參數選型

無錫商甲半導體有限公司成立于2023年8月3日,注冊地位于無錫經濟開發(fā)區(qū)太湖灣信息技術產業(yè)園1號樓908室。公司專注于功率半導體器件的研發(fā)設計與銷售,采用Fabless模式開發(fā)TrenchMOSFET、IGBT等產品,截至2023年12月,公司已設立深圳分公司拓展華南市場,并獲評2024年度科技型中小企業(yè)。無錫商甲半導體有限公司利用技術優(yōu)勢,以國內***技術代Trench/SGT產品作為***代產品;產品在FOM性能方面占據***優(yōu)勢,結合先進封裝獲得的更高電流密度;打造全系列N/P溝道車規(guī)級MOSFET,為日益增長的汽車需求助力;打造全系列CSPMOSFET,聚焦SmallDFN封裝;未來兩年內做全硅基產品線并拓展至寬禁帶領域;