如皋常規(guī)金相顯微鏡基礎(chǔ)

來源: 發(fā)布時(shí)間:2025-08-31

電腦型金相顯微鏡或是數(shù)碼金相顯微鏡是將光學(xué)顯微鏡技術(shù)、光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)完美地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成的高科技產(chǎn)品,可以在計(jì)算機(jī)上很方便地觀察金相圖像,從而對(duì)金相圖譜進(jìn)行分析,評(píng)級(jí)等以及對(duì)圖片進(jìn)行輸出、打印。金相顯微鏡系統(tǒng)是將傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡與計(jì)算機(jī)(數(shù)碼相機(jī))通過光電轉(zhuǎn)換有機(jī)的結(jié)合在一起,不僅可以在目鏡上作顯微觀察,還能在計(jì)算機(jī)(數(shù)碼相機(jī))顯示屏幕上觀察實(shí)時(shí)動(dòng)態(tài)圖像,電腦型金相顯微鏡并能將所需要的圖片進(jìn)行編輯、保存和打印。EVIDENT公司生產(chǎn)的奧林巴斯品牌金相顯微鏡(BX53M、GX53、DSX系列等)擁有優(yōu)良的設(shè)計(jì)和便捷的控制功能,簡(jiǎn)金相顯微鏡化了復(fù)雜的顯微檢查任務(wù);用戶不需要長(zhǎng)時(shí)間的培訓(xùn)即可掌握顯微鏡的大多數(shù)功能,不但具有方便而舒適的操作性,還增強(qiáng)了圖像的 再現(xiàn)性,很大程度減少了人為失誤。 [1-2模塊化設(shè)計(jì):系統(tǒng)組件采用模塊化設(shè)計(jì),便于用戶根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行選擇和配置。如皋常規(guī)金相顯微鏡基礎(chǔ)

如皋常規(guī)金相顯微鏡基礎(chǔ),金相顯微鏡

光學(xué)金相顯微術(shù)是利用可見光顯微鏡觀察金屬樣品表面微觀組織的技術(shù),通過分析不同組織對(duì)光的反射差異實(shí)現(xiàn)定性、定量研究,可檢測(cè)0.2-500μm尺度的金屬結(jié)構(gòu),廣泛應(yīng)用于材料性能分析與冶金質(zhì)量控制 [1]。該技術(shù)由俄國(guó)學(xué)者阿諾索夫于1841年初步探索,1863年英國(guó)科學(xué)家索比將巖相學(xué)方法引入鋼鐵研究奠定基礎(chǔ),后經(jīng)馬滕斯、奧斯蒙等學(xué)者完善,20世紀(jì)初形成系統(tǒng)化分析方法。金相顯微鏡由光學(xué)放大、照明和機(jī)械系統(tǒng)組成,**成像元件包括物鏡與目鏡,分辨率受光源波長(zhǎng)與孔徑角限制,**小分辨距離約0.2μm。樣品需經(jīng)研磨、拋光及化學(xué)腐蝕處理以增強(qiáng)組織對(duì)比度。特殊分析方法涵蓋偏振光顯微術(shù)、干涉顯微術(shù)與相襯技術(shù),可檢測(cè)晶體各向異性及表面形貌差異。定量金相技術(shù)基于體視學(xué)實(shí)現(xiàn)顯微組織量化分析,高溫/低溫金相技術(shù)則通過變溫樣品臺(tái)觀察組織動(dòng)態(tài)變化 [2]。啟東常規(guī)金相顯微鏡哪家強(qiáng)非專業(yè)人員不要嘗試擦物鏡及其它光學(xué)部件。

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金相樣品按所需的分析方法制備后即可進(jìn)行分析觀察,常用的分析方法見圖5 ,可分為常規(guī)分析方法和特殊分析方法。常規(guī)分析方法由于樣品制備簡(jiǎn)單,顯微鏡不需特殊的附件,操作簡(jiǎn)便,是觀察和研究金屬微觀組織形貌的**常用方法;直接使用垂直反射光的振幅及波長(zhǎng)信息,樣品經(jīng)磨平、拋光、腐刻后即可置于顯微鏡下觀察分析,按照明方式有直射(即明場(chǎng))和斜射(即暗場(chǎng))兩種。明場(chǎng)照明光線直射到樣品上觀察,出由于樣品表面上不同晶粒或不同相之間化學(xué)性質(zhì)的差異,在同一腐蝕介質(zhì)中發(fā)生不均勻的溶解,造成反射本領(lǐng)的差別而顯示組織組成物。

腐刻圖4 光學(xué)金相顯微術(shù)大多數(shù)經(jīng)拋光的試樣是不能看到組織的。因?yàn)楣庠跇悠繁砻嫔暇鶆蚍瓷?,各?同組織的反射率差別很小,不能被肉眼察覺。因而需要采用以下腐刻方法加大各相之間的襯度。①化學(xué)及電化學(xué)方法:化學(xué)腐刻(4%-8%硝酸酒精、苦味酸氫氧化鈉溶液、鐵**鉀等)電解腐刻(包括恒電位腐刻),陽極腐刻及氧化(熱染)等;②物理方法:真空顯示(選擇性蒸發(fā)),離子束濺射,干涉層等。目前,***使用的化學(xué)腐刻劑,大多數(shù)都是基于經(jīng)驗(yàn);近年來已發(fā)展出如恒電位電解腐刻、離子束腐刻和干涉層金相技術(shù)等方法,可較好地控制條件,保證實(shí)驗(yàn)的重復(fù)性。后者利用鍍層的干涉效應(yīng),能真實(shí)地反映組織形貌。根據(jù)觀察試樣所需的放大倍數(shù)要求,正確選配物鏡和目鏡,分別安裝在物鏡座上和目鏡筒內(nèi)。

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是用可見光作為照明源的一種顯微鏡。分立式和臥式,見圖1。它們都包括光學(xué)放大、照明和機(jī)械三個(gè)系統(tǒng)。放大系統(tǒng)是影響顯微鏡用途和質(zhì)量的關(guān)鍵。主要由物鏡和目鏡組成。其光路見圖2。顯微鏡的放大率為:公式式中M顯表示顯微鏡放大率;M物、M目和f物、f目分別表示物鏡和目鏡的放大率和焦距;L為光學(xué)鏡筒長(zhǎng)度;250為明視距離。長(zhǎng)度單位皆為mm。分辨率和象差透鏡的分辨率和象差缺陷的校正程度是衡量顯微鏡質(zhì)量的重要標(biāo)志。在金相技術(shù)中分辨率指的是物鏡對(duì)目的物的**小分辨距離。由于光的衍射現(xiàn)象,物鏡的**小分辨距離是有限的。德國(guó)人阿貝(Abbé)對(duì)**小分辨距離(d)提出了以下公式:業(yè)界大式樣高度可達(dá)到380毫米的,給您提供非凡的操作空間。如東新款金相顯微鏡規(guī)格尺寸

將顯微鏡的燈泡插在低壓變壓器上(6~8V),再將變壓器插頭插在220V的電源插座上,使燈泡發(fā)亮。如皋常規(guī)金相顯微鏡基礎(chǔ)

對(duì)顯微鏡有效放大倍數(shù)的再認(rèn)識(shí)顯微鏡的有效放大倍數(shù)(M)與物鏡數(shù)值孔徑(NA)的關(guān)系可以表示為:550NA<M<1100NA>;,長(zhǎng)期以來,顯微鏡使用者一直遵循這一關(guān)系式.但是,VanderVoort在其所著《金相學(xué)——原理與實(shí)踐》一書中指出,上式是在用理想的眼睛觀察具有理想反差物象的條件下推導(dǎo)出的,因此不要當(dāng)做教條來遵循.實(shí)際上,分辨率不僅與物鏡的分辨率有關(guān),而且還與物象的反差有關(guān).此外,照明條件、放大倍數(shù)、物鏡質(zhì)量,以及觀察條件都會(huì)影響物象的反差,因而也會(huì)影響分辨率.他指出,為了獲得最高分辨率,比較低有效放大倍數(shù)應(yīng)當(dāng)是比較好條件下的4倍左右,即M≈2200NA;同時(shí),使用4000×或更高放大倍數(shù)的顯微照片也是完全合理的.如皋常規(guī)金相顯微鏡基礎(chǔ)

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