本發(fā)明**技術(shù)公開了一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī)，所述卷邊輥一側(cè)安裝有膠面收卷輥，所述膠面剝離結(jié)構(gòu)一側(cè)安裝有電加熱箱，所述電加熱箱下方安裝有熱風(fēng)噴頭，所述熱風(fēng)噴頭下方安裝有干燥度感應(yīng)器,所述干燥度感應(yīng)器下方安裝有電氣控制箱，所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板。有益效果在于：采用黏合方式對(duì)印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離，同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收，節(jié)約了大量材料，降低了生產(chǎn)成本。Aprintedpeelingcompounddevi...

所述過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器，所述***管道包括多個(gè)***子管道，每一所述***子管道與一子過濾器連通，且所述多個(gè)***子管道與當(dāng)前級(jí)腔室對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱連通。在一些實(shí)施例中，所述第二管道包括公共子管道及多個(gè)第二子管道，每一所述第二子管道與一子過濾器連通，每一所述第二子管道與所述公共子管道連通，所述公共子管道與所述下一級(jí)腔室連通。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道上。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中，所述閥門開關(guān)設(shè)置在每一所述***子管道及每一所述第二子管道上。在一些實(shí)施例中，所述第二管道包括多個(gè)第三子管道，每一所述第三子管道與一子...

采用此方法可以制備出負(fù)性光刻膠所能制備的任意結(jié)構(gòu)，同時(shí)相比于傳統(tǒng)的加工，本方案加工效率可以提高上千倍，且圖形的結(jié)構(gòu)越大相對(duì)的加工效率越高。本發(fā)明為微納制造領(lǐng)域，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mems制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的有效的解決方案。附圖說明圖1為本發(fā)明制備用電子束在pmma上曝光出圓形陣列的輪廓；圖2為本發(fā)明用黏貼層撕走pmma輪廓以外的結(jié)構(gòu)后得到的圓形柱狀陣列；圖3為實(shí)施例1步驟三的結(jié)構(gòu)圖；圖4為實(shí)施例1步驟四的結(jié)構(gòu)圖；圖5為實(shí)施例1步驟五的結(jié)構(gòu)圖；圖6為實(shí)施例1步驟六的結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本...

按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20，在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30，再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中，薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中，如圖2所示，圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時(shí)，關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60，可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出，同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。...

具體實(shí)施方式現(xiàn)有技術(shù)中剝離液廢液中含有光刻膠樹脂、水和某些金屬雜質(zhì)，而剝離液廢液的處理主要是通過焚燒或者低水平回收，其大量的使用但不能夠有效地回收，或者回收后需要通過大量的時(shí)間分析其含量以及花大量時(shí)間進(jìn)行再生處理，影響了剝離液廢液的利用率。本發(fā)明對(duì)于已知的剝離液的含量以及比例有預(yù)先的了解，通過預(yù)先制定添加劑的方法，將添加劑以及某些原材料加入后重新制備剝離液新液。本發(fā)明中對(duì)于回收的剝離液廢液的進(jìn)一步處理加工，是采用現(xiàn)有技術(shù)中加壓、蒸餾等方式，可以是采用階段性變壓精餾塔進(jìn)行加壓、蒸餾處理。表1：已知的剝離液新液的組分：表二：添加劑的組分組分比例：純化液體的組分表四：制備剝離液新液在對(duì)純化液體進(jìn)行加...

根據(jù)對(duì)華新光電、日東集團(tuán)的剝離液成分進(jìn)行分析得知，剝離液主要成分為單乙醇胺(MEA)，二甲亞砜(DMS0)和二乙二醇單丁醚(BDG)，其中市場(chǎng)上大部分以二乙二醇單丁醚居多。剝離液廢液多呈深黑色且氣味大，由以下幾種組分構(gòu)成：（1）、1～20%重量的醇胺或者酰胺，以伯胺和腫胺為主。（2）、10～60%重量的醇；（3）、10～50%重量的水；（4）、5～50%重量的極性有機(jī)溶劑，如；N-甲基吡咯烷酮（NMP），環(huán)丁基砜、二甲基亞砜（DMSO）、二甲基乙酰胺、N-乙基甲酰胺等。（5）、～3%重量的金屬抗蝕劑，如2-氨基環(huán)己醇、2-氨基環(huán)戊醇等。根據(jù)上述分析可以看出，剝離液中大部分是有機(jī)溶劑，可以加以回...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的，閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上，在此不做贅述。在一些實(shí)施例中，請(qǐng)參閱圖4，圖4為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503，每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301，且每一所述第三子管道503與所述下一級(jí)腔室連通102。其...

光刻膠殘留大，殘留分布不均勻，并且產(chǎn)生邊緣聚集殘留。為了能夠進(jìn)一步地表示配方一和配方二之間的光刻膠殘留量對(duì)比，圖2中將多張單張檢測(cè)圖進(jìn)行疊加，可以更加清楚地看出兩者之間的區(qū)別，能夠明顯地看出使用配方一的剝離液，高世代面板邊緣光刻膠殘留量大。下面列舉更多剝離液組分實(shí)施例。表三：不同組分的剝離液表四：測(cè)試剝離性能時(shí)間30s50s70s90s1okokokok2okokokok3okokokok4okokokok5okokokok6okokokok7okokokok8okokokok9okokokok表三為9組不同組分的所制成的剝離液，9組不同組分的剝離液都進(jìn)行剝離性能測(cè)試，在50℃下分別放入切好的...

圖3是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖二，其離子注入步驟。圖4是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖三，其顯示離子注入后光刻膠形成了主要光刻膠層和第二光刻膠層。圖5是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖四，其顯示光刻膠膨脹。圖6是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖五，其顯示光刻膠炸裂到臨近光刻膠。圖7是一現(xiàn)有技術(shù)光刻膠剝離去除示意圖六，其顯示光刻膠去除殘留。圖8是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖一，其顯示首先剝離去除主要光刻膠層。圖9是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖二，其顯示逐步剝離去除第二光刻膠層的中間過程。圖10是本發(fā)明光刻膠剝離去除示意圖三，其顯示完全去除光刻膠后的襯底。圖11是采用現(xiàn)有技術(shù)剝離去除光刻膠殘留缺陷示...

本申請(qǐng)實(shí)施例還提供一種剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法，請(qǐng)參閱圖5，圖5為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)的工作方法的流程示意圖，該方法包括：步驟110、將多級(jí)腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級(jí)腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級(jí)腔室；步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞，則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)；步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器，...

在生產(chǎn)方面，剝離液的純度對(duì)于應(yīng)用領(lǐng)域有所限制，高純度剝離液生產(chǎn)工藝復(fù)雜，且對(duì)于生產(chǎn)設(shè)備、生產(chǎn)環(huán)境控制均有較高的要求，整體技術(shù)門檻較高。在資金方面，為取得競爭優(yōu)勢(shì)，剝離液生產(chǎn)企業(yè)需要在研發(fā)、技術(shù)、設(shè)備方面投入大量資金，因此為實(shí)現(xiàn)剝離液產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)所需的資金門檻相對(duì)較高。新思界產(chǎn)業(yè)分析人士表示，剝離液作為半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵性濕電子化學(xué)品，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展背景下，剝離液市場(chǎng)需求攀升。就總體來看，剝離液雖然是一種關(guān)鍵化工原料，但由于需求量較少，因此市場(chǎng)規(guī)模偏小，生產(chǎn)企業(yè)由大型濕電子化學(xué)品主導(dǎo)，新進(jìn)入企業(yè)難以尋求發(fā)展機(jī)遇。高效剝離液，讓光刻膠去除更輕松、更徹底。嘉興銅鈦蝕刻液剝離液銷售廠本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體...

參考圖7)，這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會(huì)被增強(qiáng)呈現(xiàn)，傳遞到柵極成型工序時(shí)會(huì)對(duì)柵極圖形產(chǎn)生嚴(yán)重的影響，即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷，在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接，直接降低了產(chǎn)品良率。另外，在氧氣灰化階段，由于等離子氧可以穿透襯底表面上的氧化層到達(dá)襯底硅區(qū)，直接與硅反應(yīng)產(chǎn)生二氧化硅，增加了硅損失，會(huì)影響器件閾值電壓及漏電流，也會(huì)影響產(chǎn)品良率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：在發(fā)明內(nèi)容部分中引入了一系列簡化形式的概念,該簡化形式的概念均為本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)簡化，這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征，更...

形成帶有沉淀物的固液混合物，打開一級(jí)過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，固液混合物進(jìn)入一級(jí)過濾罐16的過濾筒中，先由一級(jí)過濾罐16的過濾筒過濾得到一級(jí)線性酚醛樹脂，濾液由提升泵6送往攪拌釜的循環(huán)料口7，往復(fù)3次數(shù)后，一級(jí)線性酚醛樹脂回收完成，關(guān)閉一級(jí)過濾罐進(jìn)料管路上的電磁閥18，利用提升泵6將一級(jí)過濾罐16中濾液抽取到攪拌釜10內(nèi)備用；2、向攪拌釜10中輸入酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?，即二?jí)線性酚醛樹脂，利用ph計(jì)檢測(cè)溶液ph值，當(dāng)達(dá)到5-7范圍內(nèi)即可，打開二級(jí)過濾罐13進(jìn)料管路上的電磁閥17，帶有沉淀物的混合液進(jìn)入二級(jí)過濾罐13中，由其中的過濾筒過濾得到二級(jí)線性酚醛樹脂，廢液二...

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至加工的基板上、***通過去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉，從而完成整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移過程。在液晶面板和amoled生產(chǎn)中***使用?，F(xiàn)有的剝離液主要有兩種，分別是水性剝離液和有機(jī)剝離液，由于有機(jī)剝離液只能用于具有mo/al/mo結(jié)構(gòu)的制程中，無法用于ito/ag/ito；且乙醇胺的含量高達(dá)60％以上，有很強(qiáng)的腐蝕性，因此，常用的剝離液是水性剝...

光電行業(yè)的大力發(fā)展，致使剝離液被國內(nèi)外研究人員所關(guān)注及研究，雖然在**網(wǎng)及技術(shù)網(wǎng)上對(duì)剝離液的闡述較少，但當(dāng)前國內(nèi)與國外均在剝離液廢液如何利用及處置方面有了一定的成果，。美國專利US7273560公布了包含單乙醇胺與二乙二醇單丁醚組合的光刻膠剝離液廢液中含有、77%的二乙二醇單丁醚、3%的光刻膠和?，F(xiàn)有技術(shù)***采用的光刻膠剝離液廢液回收方法通常是通過薄膜蒸發(fā)器回收大部分的有機(jī)成分，回收得到的有機(jī)組分或再經(jīng)脫色脫水等處理后可再次作為光刻膠剝離液應(yīng)用。這種方法雖然流程簡便，但在使用薄膜蒸發(fā)器蒸發(fā)溶劑過程中，光刻膠濃度達(dá)到一定程度后其傳熱傳質(zhì)效率快速下降，使溶劑回收效率大為降低，處理能耗***升高。...

根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2020-2024年中國剝離液行業(yè)市場(chǎng)供需現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示，剝離液屬于濕電子化學(xué)品的重要品類，近幾年受新能源、汽車電子等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，我國濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)增，2019年我國濕電子化學(xué)品市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到100億元左右，需求量約為138萬噸。隨著剝離液在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中的應(yīng)用增長，剝離液產(chǎn)量以及市場(chǎng)規(guī)模隨之?dāng)U大，2019年我國半導(dǎo)體用剝離液需求量約為，只占據(jù)濕電子化學(xué)品總需求量的。從競爭方面來看，當(dāng)前全球剝離液的生產(chǎn)由濕電子化學(xué)品企業(yè)主導(dǎo)，主要集中在歐美、日韓以及中國，代表性企業(yè)有德國巴斯夫、德國漢高、美國霍尼韋爾、美國ATMI公司、美國空氣化工產(chǎn)品公...

采用此方法可以制備出負(fù)性光刻膠所能制備的任意結(jié)構(gòu)，同時(shí)相比于傳統(tǒng)的加工，本方案加工效率可以提高上千倍，且圖形的結(jié)構(gòu)越大相對(duì)的加工效率越高。本發(fā)明為微納制造領(lǐng)域，光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mems制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的有效的解決方案。附圖說明圖1為本發(fā)明制備用電子束在pmma上曝光出圓形陣列的輪廓；圖2為本發(fā)明用黏貼層撕走pmma輪廓以外的結(jié)構(gòu)后得到的圓形柱狀陣列；圖3為實(shí)施例1步驟三的結(jié)構(gòu)圖；圖4為實(shí)施例1步驟四的結(jié)構(gòu)圖；圖5為實(shí)施例1步驟五的結(jié)構(gòu)圖；圖6為實(shí)施例1步驟六的結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本...

本發(fā)明采用一種選擇性剝離制備微納結(jié)構(gòu)的新方法，可制備出任意負(fù)性光刻膠所能制備的任意圖形且加工效率比傳統(tǒng)的加工方法提高了上萬倍(以直徑為105nm的結(jié)構(gòu)為例),特別是為跨尺度結(jié)構(gòu)的加工，為光學(xué)領(lǐng)域，電學(xué)領(lǐng)域，聲學(xué)領(lǐng)域，生物領(lǐng)域，mem制造，nems制造，集成電路等領(lǐng)域提供了一種新的解決方案。本發(fā)明的技術(shù)方案如下：一種選擇性剝離光刻膠制備微納結(jié)構(gòu)的方法，包括以下步驟：步驟一、提供襯底，并清洗；步驟二、對(duì)襯底進(jìn)行修飾降低光刻膠與襯底的粘附力；步驟三、襯底上旋涂光刻膠得到薄膜；步驟四、在光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓；所述所需結(jié)構(gòu)包括若干**單元，**單元外周形成有閉合的縫隙；步驟五、在光刻膠上覆蓋一層...

需要說明的是，本發(fā)明剝離液中，推薦*由上述成分構(gòu)成，但只要不阻礙本發(fā)明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是，本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定，但通常**將上述成分溶于水就成為堿性，因此沒有特別必要調(diào)整ph。另外，本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分分別分開預(yù)先溶于水，成為抗蝕劑的剝離液套件，將它們混合來制備。具體來說，可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液...

按照組成成分和應(yīng)用工藝不同，濕電子化學(xué)品可分為通用性和功能性濕電子化學(xué)品。通用濕電子化學(xué)品以超凈高純?cè)噭橹?，一般為單組份、單功能、被大量使用的液體化學(xué)品，按照性質(zhì)劃分可分為：酸類、堿類、有機(jī)溶劑類和其他類。酸類包括氫氟酸、硝酸、鹽酸、硫酸、磷酸等；堿類包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀等；有機(jī)溶劑類包括甲醇、乙醇、異丙醇、**、乙酸乙酯等；其他類包括雙氧水等。功能濕電子化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的復(fù)配類化學(xué)品，即在單一的超凈高純?cè)噭ɑ蚨喾N超凈高純?cè)噭┑呐浜希┗A(chǔ)上，加入水、有機(jī)溶劑、螯合劑、表面活性劑混合而成的化學(xué)品。例如剝離液、顯影液、蝕刻液、清洗液等。由于多數(shù)功...

隨著國內(nèi)電子制造產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，光刻膠剝離液等電子化學(xué)品的使用量也大為増加。特別是縱觀近幾年度的光電行業(yè)，風(fēng)靡全球的智能手持設(shè)備、移動(dòng)終端等簡直成為了光電行業(yè)的風(fēng)向標(biāo)：與之相關(guān)的光電領(lǐng)域得到了飛速的發(fā)展，鏡頭模組、濾光片、LTPS液晶顯示面板、觸摸屏幕、傳感器件等等。而光電行業(yè)的其他領(lǐng)域，雖然也有增長，但是遠(yuǎn)不及與智能手持設(shè)備相關(guān)的光電領(lǐng)域。工業(yè)上所使用的剝離液主要是有機(jī)胺和極性有機(jī)溶劑的組合物，通過溶脹和溶解方式剝離除去光刻膠。上述有機(jī)胺可包括單乙醇胺(MEA)，二甲基乙酰胺(DMAC)，N-甲基甲酰胺(NMF)，N-甲基ニ乙醇胺(MDEA)等。上述極性有機(jī)溶劑可包括二乙二醇甲醚(...

按照玻璃基板傳送方向從當(dāng)前腔室101開始逐級(jí)由各腔室10向玻璃基板供給剝離液以進(jìn)行剝離制程。剝離液從當(dāng)前腔室101進(jìn)入相應(yīng)的存儲(chǔ)箱20，在剝離液的水平面超過預(yù)設(shè)高度后流入過濾器30，再經(jīng)過過濾器30的過濾將過濾后的剝離液傳送至下一級(jí)腔室102內(nèi)。其中，薄膜碎屑70一般為金屬碎屑或ito碎屑。其中，如圖2所示，圖2為本申請(qǐng)實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺(tái)100的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。閥門開關(guān)60設(shè)置在管道40及第二管道50上。在過濾器30被阻塞時(shí)，關(guān)閉位于過濾器30兩側(cè)的管道40及第二管道50上的閥門開關(guān)60，可以保證當(dāng)前級(jí)腔室101對(duì)應(yīng)的存儲(chǔ)箱20內(nèi)剝離液不會(huì)流出，同時(shí)下一級(jí)腔室102內(nèi)的剝離液也不會(huì)流出。...

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移至加工的基板上、***通過去膠剝離液將未曝光部分余下的光刻膠清洗掉，從而完成整個(gè)圖形轉(zhuǎn)移過程。在液晶面板和amoled生產(chǎn)中***使用。現(xiàn)有的剝離液主要有兩種，分別是水性剝離液和有機(jī)剝離液，由于有機(jī)剝離液只能用于具有mo/al/mo結(jié)構(gòu)的制程中，無法用于ito/ag/ito；且乙醇胺的含量高達(dá)60％以上，有很強(qiáng)的腐蝕性，因此，常用的剝離液是水性剝...

本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)：：印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中，伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而，以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題，而避免其使用。近年來，為了避免胺系的抗蝕劑的剝離液的問題點(diǎn)，還報(bào)道了一種含有氫氧化鈉和溶纖劑的剝離液(專利文獻(xiàn)1)，由于剝離時(shí)的抗蝕劑沒有微細(xì)地粉碎，因此存在近年的微細(xì)的布線間的抗蝕劑難以除去的問題點(diǎn)?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)1：日本特開2002-323776號(hào)公報(bào)技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：發(fā)明要解決的問題因此，本發(fā)明的課題在于，提供容易除去微細(xì)的布線間的抗...

所述硫脲類緩蝕劑包括硫脲、苯基硫脲或月桂酰基硫脲中的一種。具體的，所述聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑為聚氧乙烯聚氧丙烯單丁基醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、十二烷基聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚中的一種。采用上述技術(shù)方案，本發(fā)明技術(shù)方案的有益效果是：本用于疊層晶圓的光刻膠剝離液具有較快的剝離速度，對(duì)金屬的腐蝕率低，而且使用壽命長。具體實(shí)施方式本發(fā)明涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，配方包括10～20wt％二甲基亞砜，10～20wt％一乙醇胺，5～11wt％四甲基氫氧化銨，～1wt％硫脲類緩蝕劑和～2wt％聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑，5～15wt％n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。...

添加劑中含有醇醚化合物、胺化合物、緩蝕劑以及潤濕劑；s3：將步驟s1的剝離液廢液與添加劑混合，重新制備剝離液新液，制備過程中加入酰胺化合物或醇醚化合物。光刻膠剝離液為純有機(jī)溶劑體系，廢液可通過蒸餾回收80-95％有效物，得出純化液體，而在上述制備方式中，純化液體所含的組分與添加劑所含的組分之間是具有相重復(fù)的，可以認(rèn)為，添加劑是根據(jù)已知的剝離液新液的組分進(jìn)行配制的，添加劑可以是對(duì)純化液體與剝離液新液之間的組分的差別而進(jìn)行的添加、補(bǔ)充，使得純化液體和添加劑混合后，能夠具有與剝離液新液相同的組分。那么，可以知道，在預(yù)先知道剝離液新液的組分的基礎(chǔ)上，可以通過預(yù)先配制含有剝離液新液中的某些組分的添加劑，...

所述抽真空氣體修飾法包括如下步驟：將將襯底和光刻膠抗粘劑置于密閉空間中，對(duì)密閉空間抽真空至光刻膠抗粘層氣化，保持1分鐘以上，直接取出襯底。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述襯底為硅、氧化硅、石英、玻璃、氮化硅、碳化硅、鈮酸鋰、金剛石、藍(lán)寶石或ito制成。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述步驟(2)對(duì)襯底修飾的試劑包括hmds和十三氟正辛基硅烷；對(duì)襯底修飾的試劑鍍?cè)谝r底表面。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述所述光刻膠包括pmma,zep，瑞紅膠，az膠，納米壓印膠和光固化膠。進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠厚度為1nm-100mm進(jìn)一步的改進(jìn)，所述光刻膠上加工出所需結(jié)構(gòu)的輪廓的方法為電子束曝光，離子束曝光，聚焦離子束曝光，重離子曝光，x射線曝光，等...

含有的胺化合物的質(zhì)量分為：1％-2％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的添加劑中含有醇醚化合物的質(zhì)量分為：30％-50％；含有胺化合物的質(zhì)量分為：35％-55％；含有緩蝕劑的質(zhì)量分為：6％-12％；含有潤濕劑的質(zhì)量分為：1％-7％。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的酰胺化合物以及步驟s2中添加劑所含的酰胺化合物均為n-甲基甲酰胺(nmf)、n-甲基乙酰胺、n，n-二甲基甲酰胺中的一種或者多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述的步驟s1中剝離液廢液所含的醇醚化合物以及步驟s2中添加劑所含的醇醚化合物均為二乙二醇丁醚(bdg)、二乙二醇甲醚、乙二醇甲醚、乙二醇乙醚中的一種或多種。進(jìn)一步技術(shù)方案中，所述...

本發(fā)明**技術(shù)公開了一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī)，所述卷邊輥一側(cè)安裝有膠面收卷輥，所述膠面剝離結(jié)構(gòu)一側(cè)安裝有電加熱箱，所述電加熱箱下方安裝有熱風(fēng)噴頭，所述熱風(fēng)噴頭下方安裝有干燥度感應(yīng)器,所述干燥度感應(yīng)器下方安裝有電氣控制箱，所述電氣控制箱上方安裝有液晶操作面板。有益效果在于：采用黏合方式對(duì)印刷品膠面印刷進(jìn)行剝離，同時(shí)能夠?qū)τ∷⑵纺z面進(jìn)行回收，節(jié)約了大量材料，降低了生產(chǎn)成本。Aprintedpeelingcompounddevi...

以往的光刻膠剝離液對(duì)金屬的腐蝕較大，可能進(jìn)入疊層內(nèi)部造成線路減薄，藥液殘留，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會(huì)對(duì)疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，既具有較高的光刻膠剝離效率，又不會(huì)對(duì)晶圓內(nèi)層有很大的腐蝕。本發(fā)明通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)上述目的：一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，配方包括10～20wt％二甲基亞砜，10～20wt％一乙醇胺，5～11wt％四甲基氫氧化銨，～1wt％硫脲類緩蝕劑和～2wt％聚氧乙烯醚類非離子型表面活性劑，5～15wt％n-甲基吡咯烷酮和余量的去離子水。具體的。友達(dá)光電用的哪家的剝離液？銅陵ITO蝕刻...