從蝕刻速度及安全性的觀點來看,推薦為40℃至70℃,更推薦為45℃至55℃。處理時間視對象物的表面狀態(tài)及形狀等而變化,通常為30秒至120秒左右。實施例然后,對本發(fā)明的實施例與比較例一起進行說明。此外,本發(fā)明并非限定于下述實施例而解釋。制備表1及表2所示的組成的各蝕刻液,在下述條件下進行蝕刻試驗及蝕刻液的穩(wěn)定性試驗。此外,表1及表2所示的組成的各蝕刻液中,剩余部分為離子交換水。另外,表1及表2所示的鹽酸的濃度為以氯化氫計的濃度。(蝕刻試驗)通過濺鍍法在樹脂上形成50nm的鈦膜,然后成膜200nm的銅膜,進而通過電鍍銅在該銅膜上形成圖案,將所得的基板用作試樣。使用銅的蝕刻液,將試樣的濺鍍銅膜溶解而使鈦膜露出。然后,將試樣浸漬在實施例1至實施例12及比較例1至比較例3的蝕刻液中進行蝕刻實驗。將實驗結果示于表1。[表1]像表1所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液可在不蝕刻銅的情況下選擇性地蝕刻鈦。(蝕刻液的穩(wěn)定性試驗)將實施例1、實施例7、實施例12及比較例4的蝕刻液在室溫下放置2天后,進行所述蝕刻試驗,比較放置前后的蝕刻速度。將比較結果示于表2。[表2]像表2所示那樣,本發(fā)明的蝕刻液的保存穩(wěn)定性優(yōu)異,即便在長期保存的情況下也可穩(wěn)定地選擇性地蝕刻鈦。BOE蝕刻液多少錢一噸?南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液主要作用
在上述硅烷系偶聯劑的含量處于上述含量范圍內的情況下,能夠調節(jié)添加劑本身凝膠化,且獲得合適的sio2防蝕和sin蝕刻性能。(c)水本發(fā)明的蝕刻液組合物中所包含的上述水可以為用于半導體工序的去離子水,推薦使用18mω/㎝以上的上述去離子水。上述水的含量可以為使包含本發(fā)明的必須成分以及除此以外的其他成分的組合物總重量成為100重量%的余量。推薦可以按照本發(fā)明的組合物總重量的2~45重量%來包含。<選擇添加劑的方法、由此選擇的添加劑及利用其的蝕刻方法>此外,本發(fā)明提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*對上述氮化物膜選擇性蝕刻的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。上述蝕刻液組合物中說明的、對于添加劑選擇等的一切內容均可以同樣地應用于本發(fā)明的選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的添加劑的方法、由此選擇的添加劑以及利用該添加劑的蝕刻方法。具體而言,提供選擇用于在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻上述氮化物膜的蝕刻液組合物的硅烷系偶聯劑的方法、由此選擇的硅烷系偶聯劑以及包含該硅烷系偶聯劑的蝕刻方法。深圳市面上哪家蝕刻液按需定制蘇州有哪些公司可以做蝕刻液。
該宣泄孔121的上孔徑a1與下孔徑a2亦不相等,且該上孔徑a1小于該下孔徑a2,或該宣泄孔121由該第二擋板12的下表面122朝向上表面123的方向漸縮,以維持毛細現象而避免該藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題。當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板(本圖式未標示)上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出(如圖10與圖11所示),除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的顯影不均現象,亦可達到避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;為了必須避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,故該復數個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12上表面的藥液51水滴經由該復數個宣泄孔121滴下至該基板20上(如圖12所示)。另請參閱圖13所示,為本實用新型蝕刻設備的蝕刻方法的步驟流程圖,其中本實用新型蝕刻設備的蝕刻方法主要包括有下列步驟。
當該風刀裝置40的***風刀41與該第二風刀42為了減少該基板20上所殘留的藥液51而吹出該氣體43時,該氣體43碰到該擋液板結構10后部分會往該復數個宣泄孔121流動,并朝向該第二擋板12的該上表面123宣泄而出,除了保有原有擋液板的防止該藥液51噴濺而造成的蝕刻不均現象,亦可達到以破真空的原理避免該氣體43在該基板20附近形成渦流而造成真空吸引問題;此外,為了避免由該噴灑裝置50噴灑而出的藥液51滴入該基板20上而造成蝕刻不均的問題,因此,該復數個宣泄孔121的孔徑a0必須要足夠小,例如:孔徑a0小于3mm,即可因毛細現象的作用,亦即該水滴于該宣泄孔121孔洞內的夾角θ等于該水滴與該第二擋板12的該上表面123所夾的接觸角θ4,而達到防止位于該第二擋板12的該上表面123的藥液51水滴經由該復數個宣泄孔121滴下至該基板20上。由上述的實施說明可知,本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備與現有技術相較之下,本實用新型具有以下優(yōu)點。本實用新型的擋液板結構與以之制備的蝕刻設備主要借由具有復數個宣泄孔的擋液板結構搭配風刀裝置的硬體設計,有效使風刀裝置吹出的氣體得以經由宣泄孔宣泄,并利用水滴的表面張力現象防止水滴由宣泄孔落下造成基板蝕刻不均等異?,F象。性價比高的蝕刻液哪里可以買到;
因此存在開發(fā)蝕刻液組合物時會過度耗費時間和費用的問題。美國公開**第2號公開了在3dnand閃存的制造工序中,對于硅氧化物膜和硅氮化物膜*選擇性蝕刻硅氮化物膜的蝕刻液組合物。然而,為了選擇構成成分的種類和濃度,不得不需要測試蝕刻液組合物的蝕刻性能,實際情況是,與上述同樣,仍然沒有解決在找尋蝕刻液組合物的適宜組成方面過度耗費時間和費用的問題?,F有技術文獻**文獻**文獻1:美國公開**第2號技術實現要素:所要解決的課題本發(fā)明是為了改善上述以往技術問題的發(fā)明,其目的在于,提供用于選擇硅烷系偶聯劑的參數以及包含由此獲得的硅烷系偶聯劑的蝕刻液組合物,所述硅烷系偶聯劑作為添加劑即使不進行另外的實驗確認也具有在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中*選擇性蝕刻氮化物膜的效果和防蝕能力。此外,本發(fā)明的目的在于,提供一種以在包含氧化物膜和氮化物膜的膜中能夠*選擇性蝕刻上述氮化物膜為特征的蝕刻液組合物。此外,本發(fā)明的目的在于,提供利用上述蝕刻液組合物的蝕刻方法。此外,本發(fā)明的目的在于,提供選擇上述蝕刻液組合物所包含的硅烷系偶聯劑的方法。解決課題的方法為了實現上述目的,本發(fā)明提供一種蝕刻液組合物,其特征在于,包含磷酸、硅烷。蝕刻液用在哪些工藝段上;蘇州市面上哪家蝕刻液產品介紹
蝕刻液的分類可以分為哪些?南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液主要作用
為本實用新型擋液板結構其二較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,以及其三較佳實施例的宣泄孔排列示意圖,在本實用新型其二較佳實施例中,開設于該第二擋板12上的宣泄孔121亦呈千鳥排列的直通孔態(tài)樣,且位于同一列的宣泄孔121之間具有相同的距離,例如:圖4中所示的w1,其中w1大于圖3的w或圖5的w2,其中w2大于w,而該宣泄孔121的一孔徑a0亦小于3mm,以使該宣泄孔121的孔洞內產生毛細現象,若該第二擋板12的該上表面123有水滴出現時,則該水滴不至于經由該宣泄孔121落至下表面,但仍舊可以提供空氣宣泄的管道,以借由該宣泄孔121平衡該第二擋板12上、下二端部的壓力。此外,請參閱圖6與圖7所示,為本實用新型蝕刻設備其一較佳實施例的整體結構示意圖,以及擋液板結構運作局部放大圖,其中本實用新型的蝕刻設備1設置于一濕式蝕刻機的一槽體(圖式未標示)內,該蝕刻設備1包括有一如上所述的擋液板結構10、一輸送裝置30、一基板20,以及一風刀裝置40,其中本實用新型主要借由具有復數個宣泄孔121的擋液板結構10搭配該風刀裝置40的硬體設計,有效使該風刀裝置40吹出的氣體43得以由該復數個宣泄孔121宣泄。南京鋁鉬鋁蝕刻液蝕刻液主要作用